Paljas keraamiline substraat

Paljad keraamilised substraadid viitavad keraamilistele substraatidele ilma vooluahelateta. Neil on eeliseid nagu kõrge temperatuurikindlus, kõrge elektriline isolatsiooni jõudlus, madal dielektriline konstant ja dielektriline kadu, kõrge soojusjuhtivus, hea keemiline stabiilsus ja sarnane komponentide soojuspaisumistegur. Neid kasutatakse sageli funktsionaalsete keraamiliste komponentidena erinevates hübriidse integreeritud vooluahelates, suure võimsusega moodulites, nutikates võimsusega pooljuhtides, autotööstuses jne. Samal ajal, mida me ei saa ignoreerida piiratud ja kulud on suhteliselt kõrged.

Praegu kasutavad turul olevad keraamilised substraadid peamiselt kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi keraamikat, alumiiniumnitriidi keraamikat, räni nitriidi keraamikat ja räni karbiidi keraamikat toorainena. Igal neist on oma eelised ja rakendusalad. Erinevat tüüpi keraamiliste substraatide eelised ja rakendusalad on.

Praegu kasutame palja keraamiliste substraatide saamiseks peamiselt lindi valamist või kuiva pressimisprotsessi. Meie standardsete paksuste hulka kuuluvad 0,25 / 0,30 /0,40 / 0,50 / 0,635 / 0,80 / 1,0 mm jne. Lisaks saame pakkuda klientidele kohandatud teenuseid sekundaarsete töötlemisprotsesside kaudu, näiteks laserriskide, laserlõikamise ja täpsuse töötlemise kaudu.